激光脉冲沉积设备厂家-激光脉冲沉积设备-沈阳鹏程真空技术公司

脉冲激光沉积的应用领域

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脉冲激光沉积技术适合做的薄膜包括各种多元氧化物，氮化物，---物薄膜，金属薄膜，磁性材料等。

应用领域：

单晶薄膜外延srtio3，laalo3

压电薄膜pzt，激光脉冲沉积设备，aln，bifeo3，batio3

铁电薄膜batio3，kh2po4

热电薄膜srtio3

金属和化合物薄膜电极ti，ag，au，pt，ni，co，激光脉冲沉积设备，srruo3，lanio3，yzro2，gdceo2，lasrcofeo3

半导体薄膜zn(mg)o，aln，srtio3

高k介质薄膜hfo2，ceo2，al2o3，batio3，srtio3，pbzrtio3，laalo3，ta2o5

超导薄膜yba2cuo7-x，bisrcacuo

光波导，光学薄膜pzt，aln，batio3，al2o3，zro2，tio2

超疏水薄膜ptfe

红外探测薄膜v2o5，pzt

pld450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

---真空度：≤6.7×10 pa　　

恢复真空时间：从1×10 pa抽至5×10 pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7pa.l/s；　　

真空室：ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃